钽平面靶材
溅射靶材 · CAS 7440-25-7
4N (99.99%)
规格请咨询
规格请咨询
溅射靶材是薄膜沉积过程中的固体材料源,可由单质、合金或化合物制成。选择靶材时,除了成分和纯度,还应明确靶形、尺寸、背板及设备接口;不同材料体系需要匹配不同的沉积条件。
选型要点:说明圆靶或矩形靶尺寸、厚度、背板要求、设备型号及目标膜层。
溅射靶材 · CAS 7440-25-7
溅射靶材 · CAS 7440-25-7
溅射靶材 · CAS 7440-33-7
溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-15-5
溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-15-5
溅射靶材 · CAS 7440-04-2
溅射靶材 · CAS 7440-04-2
溅射靶材 · CAS 7439-88-5
溅射靶材 · CAS 7439-88-5
溅射靶材 · CAS 7440-06-4
溅射靶材 · CAS 7440-57-5
溅射靶材 · CAS 7440-57-5
溅射靶材 · CAS 7439-97-6
溅射靶材 · CAS 7439-97-6
溅射靶材 · CAS 7440-28-0
溅射靶材 · CAS 7440-28-0
溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7439-92-1
溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7439-92-1