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溅射靶材

溅射靶材是薄膜沉积过程中的固体材料源,可由单质、合金或化合物制成。选择靶材时,除了成分和纯度,还应明确靶形、尺寸、背板及设备接口;不同材料体系需要匹配不同的沉积条件。

选型要点:说明圆靶或矩形靶尺寸、厚度、背板要求、设备型号及目标膜层。

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铒平面靶材 · 产品展示图

铒平面靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-52-0

99.9%(3N)~ 99.99%(4N)
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铥平面靶材 · 产品展示图

铥平面靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-30-4

99.99%
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镱平面靶材 · 产品展示图

镱平面靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-64-4

99.99%
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镥平面靶材 · 产品展示图

镥平面靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7439-94-3

99.99%
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钨平面靶材 · 产品展示图

钨平面靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-33-7

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铂平面靶材 · 产品展示图

铂平面靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录

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铋平面靶材 · 产品展示图

铋平面靶材

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-69-9

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高纯锗环(Ge) · 产品展示图

高纯锗环(Ge)

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7440-56-4

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钼环(Mo) · 产品展示图

钼环(Mo)

溅射靶材 · 科泰官网收录 · CAS 7439-98-7

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