铜平面靶材

High Purity Copper Planar Sputtering Target

科泰官网独立产品页列有“高纯铜靶材（Cu）”。原页组成标注为 Cu。

请提供靶材形状、尺寸、厚度、设备型号及背板要求；具体加工方案由技术人员确认。

纯度为官网原页列示参考；实际等级、杂质限值及检测文件请在询价时确认。